codice HS 392010

Fogli di polietilene, di spessore di 20 micrometri o più ed uguale o inferiore a 40 micrometri, destinata alla fabbricazione di pellicole fotoresistenti per semiconduttori o per circuiti stampati

Film di polietilene non cellulare di spessore > 20 micrometri ma < 40 micrometri, per la produzione di film fotoresist utilizzati nella fabbricazione di semiconduttori o circuiti stampati

HS codice : 392010 GN codice : 39201023 Taric codice : 392010230080