Film di polietilene non cellulare di spessore > 20 micrometri ma < 40 micrometri, per la produzione di film fotoresist utilizzati nella fabbricazione di semiconduttori o circuiti stampati
HS codice
: 392010
GN codice
: 39201023
Taric codice
: 392010230080
Sopra puoi vedere più specifiche per il codice HS: 392010. Nella panoramica vedrai anche i codici correlati per poter effettuare ricerche più specifiche.