HS-code 392010

Polyethylenfolien mit einer dicke von 20 mikrometer bis 40 mikrometer, zum herstellen von fotoresistfilmen für die halbleiterfertigung oder für gedruckte schaltungen

Polyethylenfolien, ungeschäumt, mit einer dicke von 20 mikrometer bis 40 mikrometer und mit einer dichte von < 0,94, zum herstellen von fotoresistfilmen für die halbleiterfertigung oder für gedruckte schaltungen

HS code : 392010 GN code : 39201023 Taric code : 392010230080